集成电路布图设计保护条例是中国为保护集成电路设计知识产权而制定的重要法规。集成电路设计是电子工业的核心环节，涉及将电路功能通过特定布局和互连方式实现在半导体芯片上。该条例于2001年颁布，旨在鼓励创新，防止未经授权的复制和使用。
条例明确了布图设计专有权的获取条件：设计必须具有原创性，且未被广泛知晓。保护期限为10年，自登记或首次商业利用之日起计算。权利人享有复制、商业利用等专有权利，同时条例也规定了合理使用的情形，如为教学或分析目的而使用。
侵权责任方面，条例规定未经许可复制或商业利用他人布图设计，需承担民事赔偿乃至刑事责任。执法机构可责令停止侵权，没收违法所得，并处以罚款。这一框架有效促进了中国集成电路产业的健康发展，激励了本土技术创新。
该条例平衡了知识产权保护与行业进步，为全球半导体领域的竞争提供了法律保障。随着技术演进，条例的实施仍需持续优化以适应新兴挑战。
